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雙靶磁控濺射儀 雙靶磁控濺射儀 雙靶磁控濺射儀

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2023-04-12 16:34:01  瀏覽次數(shù):118
核心提示:輸入電源220VAC50/60Hz,單相2000W(包括泵)濺射電源安裝有兩個(gè)濺射電源直流(DC)電源:500W,針對(duì)于制作金屬膜射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜同時(shí)可選配300W的射頻電源磁控濺射頭
輸入電源  
220VAC50/60Hz,單相  
2000W(包括泵)  
濺射電源  
安裝有兩個(gè)濺射電源  
直流(DC)電源:500W,針對(duì)于制作金屬膜  
射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜  
同時(shí)可選配300W的射頻電源  
磁控濺射頭  
儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對(duì)靶材降溫  
其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材  
另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材  
靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm  
陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm  
儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶  
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))  
也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭,訂購(gòu)前需于本公司銷(xiāo)售人員  
真空腔體  
真空腔體:300mmDiax300mmh,采用不銹鋼制作  
觀察窗口:100mmdiameter  
腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi),使得換靶更加容易  
載樣臺(tái)  
載樣臺(tái)尺寸:140mmdia.(zui大可放置4"的基底)  
載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1-20rpm(可調(diào))  
載樣臺(tái)zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/-1.0°C  
氣體流量控制器  
儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)  
量程為:0-200sccm  
氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
本產(chǎn)品信息由中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司整理發(fā)布,更多關(guān)于雙靶磁控濺射儀的信息請(qǐng)?jiān)L問(wèn): 
https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html 
http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html 

 
 
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