2025上海國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)
Shanghai International photoresist materials exhibition2025
〓基本信息〓
時(shí)間：2025年12月17-19日
地點(diǎn)：上海新國(guó)際博覽中心
〓展會(huì)簡(jiǎn)介〓
2025上海國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)將集中展示光刻膠材料行業(yè)的z新產(chǎn)品與技術(shù)，為企業(yè)樹立品牌形象，促進(jìn)貿(mào)易合作、市場(chǎng)開發(fā)，引領(lǐng)行業(yè)趨勢(shì)，加強(qiáng)生產(chǎn)、研發(fā)、銷售互動(dòng)，深入洞悉國(guó)內(nèi)外光刻膠材料及應(yīng)用市場(chǎng)未來(lái)發(fā)展新風(fēng)向，以發(fā)展的眼光挖掘未來(lái)光刻膠材料市場(chǎng)的新需求，創(chuàng)新展會(huì)內(nèi)涵，全方位、多層次組織專業(yè)觀眾，我們竭力將此次展覽會(huì)辦成光刻膠材料展覽會(huì)界同仁交流的舞臺(tái)，推動(dòng)光刻膠材料展覽會(huì)科技創(chuàng)新、提供發(fā)展商機(jī)，著力打造互惠共贏的平臺(tái)！
2025上海國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)定于2025年12月17日-19日于上海新國(guó)際博覽中心舉辦，邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)外專家與參會(huì)代表前來(lái)互動(dòng)交流，探討行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，分享各自取得的經(jīng)驗(yàn)成果，同時(shí)也向國(guó)際光刻膠材料行業(yè)展再邁進(jìn)堅(jiān)實(shí)的一步！屆時(shí)，熱忱歡迎國(guó)內(nèi)外的光刻膠材料企業(yè)及其相關(guān)行業(yè)人士前來(lái)參觀與交流！
〓為何參觀〓
大宗采購(gòu)和尋求經(jīng)銷代理合作——為您提供全球范圍內(nèi)的優(yōu)秀品牌與優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，供您一站式采購(gòu)，更可幫助您直觀了解企業(yè)實(shí)力以便順利開展貿(mào)易合作
維系重要客戶，聯(lián)絡(luò)供應(yīng)商和銷售商 —— 這是行業(yè)人士相聚的盛會(huì)，也是您會(huì)面上下游企業(yè)和維系老客戶，接待新客戶好機(jī)會(huì)
尋求創(chuàng)新產(chǎn)品與技術(shù)，解決方案 —— 各大品牌選擇發(fā)布新品，同期的高峰論壇、新品發(fā)布會(huì)、推介會(huì)等，更成為創(chuàng)新發(fā)動(dòng)機(jī)，在這里你可以找到代表趨勢(shì)的年度潮流新品
〓展會(huì)亮點(diǎn)〓
收集z新的高質(zhì)量銷售資訊，結(jié)識(shí)高質(zhì)量買家并達(dá)成銷售交易。
了解未來(lái)生產(chǎn)需求發(fā)展全球戰(zhàn)略。
與全國(guó)代理、經(jīng)銷商構(gòu)建銷售網(wǎng)絡(luò)。
通過(guò)與各地生產(chǎn)商和買家的合作來(lái)發(fā)掘新的商業(yè)機(jī)會(huì)。
加強(qiáng)公司品牌建設(shè)，提高公司的行業(yè)知名度。
獲得關(guān)于z新市場(chǎng)趨勢(shì)、技術(shù)創(chuàng)新、行業(yè)z新發(fā)展動(dòng)態(tài)以及的相關(guān)行業(yè)資訊。
〓日程安排〓
報(bào)到布展：
2025年12月15-16日 AM8:30-PM19:30
展出時(shí)間：
2025年12月17日 AM9:30-PM16:45
2025年12月18日 AM9:30-PM16:45
2025年12月19日 AM9:30-PM16:45
〓參展范圍〓
1.PCB光刻膠、干膜光刻膠、濕膜光刻膠、LCD光刻膠、TFT正性膠、彩色光刻膠、黑色光刻膠、G線光刻膠、線光刻膠、KRF光刻膠、ARF光刻膠、CCD攝像頭彩色濾光片光刻膠、MEMS光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、生物芯片光刻膠、LED光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等：
2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導(dǎo)體高端光刻膠、光刻膠配套試劑（PSPI）光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負(fù)膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專用化學(xué)品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設(shè)備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺（PI）、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導(dǎo)體化合物、光刻膠聚合物。
3.ASML光刻機(jī)、IC前道光刻機(jī)、紫外光刻機(jī)（EUV）光學(xué)、光刻設(shè)備、光刻膠用光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）光刻膠樹脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產(chǎn)酸劑、鋯前驅(qū)體集、生產(chǎn)、檢測(cè)等
〓聯(lián)系我們〓
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