PCB光刻膠展覽會 LCD光刻膠展覽會 半導體光刻膠展覽會
時間:2026年6月10-12日
地點:深圳國際會展中心
展會背景
光刻膠是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料,被譽為半導體材料皇冠上的明珠,在半導體、新型顯示、印制電路板等泛半導體領域的生產中具有重要作用。隨著全球對半導體技術依賴程度的加深,光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻產業的發展面臨著諸多挑戰。在光刻膠領域,國內高端光刻膠自給率低,研發和生產技術與國際先進水平有差距,產品性能和質量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學品方面,部分高純度、特殊配方產品依賴進口,供應受限。掩模版的高精度制造技術難度大,高端掩模版原料主要依賴進口,供應受制于人,其快速修復和更新技術有待提升。光刻機更是被國外壟斷,高端光刻機如EUV光刻機難以獲得,國內光刻機企業在技術水平、制造精度、光源系統等方面與國際先進水平存在較大差距,成為制約我國半導體產業發展的“卡脖子”環節。
為推動國內高端光刻膠技術創新,加快核心技術突破與產業化應用,同時加強下游需求應用與科研、產業企業的協同研發、技術交流。2026深圳國際光刻膠產業技術展覽會將圍繞集成電路、新型顯示、PCB領域高性能光刻膠以及光刻膠專用樹脂、光引發劑、顏料等原料技術與設備全方面展示和產學研用技術交流。是國內z主要的光刻膠領域行業盛會,一年一屆。大會已成為推動國內高端光刻膠技術創新、加快核心技術突破與產業化應用、加強產學研用深度融合的重要平臺,在行業產生了廣泛的影響力。
日程安排:
報到布展:2026年6月8-9日 展出時間: 2026年6月10-12日
頂級盛會(大會設贊助、協辦單位,詳情請致電組委會)
品牌展示 高層論壇 行業用戶洽談會 外商采購會 新技術新產品發布會
“搭建 國際采購貿易平臺、促進企業交流合作、提高參展效果”
————將是我們的目標!
? 匯集z新的銷售訊息,結識來自國內和國際的高質量買家群;
? 了解未來的產品需求,獲得z新的市場發展訊息;
? 通過行業分工合作以及產業鏈需求尋求新的商業機會;
? 發布新技術、展示新產品的絕佳平臺,獲得市場推廣及品牌建設良機,提高行業認知度;
? 參加相關的論壇活動,獲悉行業發展趨勢、技術創新的z新資訊。
展品范圍:
PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠。PCB(干膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨);LCD(彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠);半導體(紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠)等;
光刻材料: SOC、BARC/SiARC、光刻膠、TARC、Top Coating、稀釋劑、沖洗液、顯影液等;
光刻膠原材料(光引發劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑)等;
光刻膠專用試劑:稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等;
光刻技術、光刻膠與濕電子化學品、納米壓印、特種氣體、掩膜版與光刻材料與設備等;
設備:合成、純化、混合、過濾、光刻機、涂膠顯影設備以及后續的刻蝕、量測等設備;
展會優勢:
發布年度新品——百余家媒體競相直播報道,是企業發布年度新品的重要渠道了解行業趨勢——作為行業“風向標”及“晴雨表”,第一時間展現市場動向及趨勢
維系重要客戶——這是業內人士都不會錯過的盛會,也是您會面維系老客戶,接待新客戶的好機會
參展、參觀詳情咨詢:
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